Dermapen 4-Microneedling: Teknologi Peremajaan Kulit Presisi

Fitur Rekayasa Tingkat Lanjut
Sistem Kontrol Cerdas:

Penyesuaian kedalaman digital (0,2-3,0 mm) dengan presisi 0,1 mm mengkalibrasi sesuai dengan masalah kulit tertentu.

Koreksi otomatis RFID yang dipatenkan menjaga kedalaman penetrasi jarum tetap konsisten.

Osilasi vertikal 120Hz memastikan terciptanya saluran mikro yang seragam.

Pengaturan kecepatan yang dapat diprogram menyesuaikan dengan area sensitif seperti area sekitar mata dan bibir.

Keunggulan Klinis:

Masa pemulihan minimal 2 hari dengan trauma mikro yang hampir tidak terlihat.

Kompatibilitas universal dengan serum (asam hialuronat, PRP, faktor pertumbuhan)

Cocok untuk jenis kulit sensitif, berminyak, kering, dan kulit dewasa.

Kemampuan aplikasi untuk seluruh wajah dan leher.

Protokol Perawatan & Hasil
Hasil Berbasis Bukti:

Perbaikan tekstur yang terlihat setelah 3 sesi (interval 4-8 minggu)

Perbaikan bekas luka membutuhkan 4-6 perawatan (siklus 6-8 minggu)

Peningkatan sinergis dengan terapi RF dan pengelupasan kimiawi

Program Khusus Kondisi:

Panduan Perawatan Komprehensif
Persiapan Sebelum Prosedur:

Hentikan penggunaan retinoid 72 jam sebelum perawatan.

Bersihkan kulit secara menyeluruh sebelum sesi dimulai.

Hindari paparan sinar matahari 48 jam sebelumnya.

Perawatan Pasca-Pengobatan:

Oleskan krim perbaikan pelindung kulit berkualitas medis.

Perlindungan SPF 50+ yang ketat selama 14 hari

Hindari perawatan abrasif selama 72 jam.

Tunda prosedur lainnya selama 4 minggu.

Mengapa Mitra Global Memilih Manufaktur Kami?

Produksi Bersertifikasi: Fasilitas ruang bersih ISO Kelas 8 di Weifang

Kustomisasi Lengkap: OEM/ODM dengan ukiran logo gratis.

Jaminan Regulasi: Dukungan dokumentasi FDA/CE/TFDA

Dukungan Tak Tertandingi: Dukungan teknis 24/7 dengan garansi 2 tahun

Rasakan Pengalaman Manufaktur Presisi
Mintalah informasi harga grosir atau jadwalkan tur pabrik eksklusif di fasilitas Weifang kami. Hubungi tim penjualan global kami untuk paket sertifikasi dan demonstrasi pribadi.